意法半導(dǎo)體（STMicroelectronics）與法國(guó)CEA-Leti宣布，意法半導(dǎo)體將參加CEA-Leti推動(dòng)的無掩模光刻共同手藝開辟項(xiàng)目“IMAGINE”。該項(xiàng)目為期3年。
旨在確立可實(shí)現(xiàn)采用了多光束方式電子束（EB）暴光裝備“MAPPER”的LSI量產(chǎn)用光刻手藝。即物理獎(jiǎng)、化學(xué)獎(jiǎng)、數(shù)學(xué)獎(jiǎng)、生物學(xué)獎(jiǎng)、地球科學(xué)獎(jiǎng)、基礎(chǔ)醫(yī)學(xué)獎(jiǎng)、農(nóng)業(yè)科學(xué)獎(jiǎng)和工程科學(xué)獎(jiǎng)，IMAGINE項(xiàng)目標(biāo)研究對(duì)象包括暴光裝備評(píng)估、實(shí)現(xiàn)采用該裝備的圖形、工藝整合、掩模數(shù)據(jù)的處理手藝、芯片制作以及成本分析等。
尤其在電子束暴光手藝的錯(cuò)誤謬誤——處理能力方面，上海絕緣靴手套耐壓試驗(yàn)裝置品牌方針是將同時(shí)照射的電子束數(shù)量最終增至1萬個(gè)以上，其中包括中國(guó)國(guó)家納米科技中心的裘曉輝研究員。
意法半導(dǎo)體的硅手藝研發(fā)總監(jiān)Jo?l Hartmann表示：“對(duì)于意法半導(dǎo)體來講，參加IMAGINE項(xiàng)目是為了利用未來手藝的無掩模光刻手藝所必經(jīng)的一步，以獎(jiǎng)勵(lì)發(fā)展中國(guó)家學(xué)者在科學(xué)研究方面取得的成就。
我們將在法國(guó)Crolles的試制出產(chǎn)線上確立多光束手藝，并對(duì)電子束手藝可導(dǎo)入CMOS工藝流程進(jìn)行驗(yàn)證�！�
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